ALD (Atomic Layer Deposition) voor handschoenenkast
Overzicht
ALD (Atomic Layer Deposition)
Beschrijving
- Atomic Layer Deposition (ALD) is een proces voor het aanbrengen van dunne atomaire lagen;
- ALD is een specifieke vorm van CVD (Chemical Vapour Deposition). Het belangrijkste verschil tussen ALD en generieke CVD is de sequentiële, en niet gelijktijdige, introductie van de precursoren in de reactiekamer;
- Hoewel het proces langzamer is dan andere technieken, biedt het een betere structurele kwaliteit;
- Maakt de laagsgewijze depositie van TiO2, Al2O3, SiO2, ZnO, MgO, NiO, SnO2 en Nb2O5 mogelijk.
Technische specificaties - Informatie
|
Extern frame met een geïntegreerde handschoenenkast via een roestvrijstalen flens.
|
|
De ALD kan, afhankelijk van de modellen, op de vloer, aan de achterzijde of aan één zijde van de handschoenenkast worden geïntegreerd.
|
|
Compatibel met de meeste modellen die zijn ontworpen met een adequate interface.
|
Wat zijn de toepassingen van technieken voor de depositie van dunne films?
De gebieden waar technieken voor de depositie van dunne films het meest worden gebruikt, zijn de productie en ontwikkeling van componenten voor energieopslag en -behoud, halfgeleiders en nanotechnologie.
Daarom moeten handschoenenkasten op het gebied van organische fotovoltaïsche cellen, lithiumbatterijen, oleds of sensoren veel instrumenten integreren die via een flens kunnen worden gekoppeld. Zo kan een dunne film van materiaal, doorgaans met een dikte van enkele nanometers, worden aangebracht terwijl deze beschermd is tegen zuurstof en vocht.
Enkele technieken voor de depositie van dunne films
Er zijn verschillende soorten apparatuur beschikbaar voor Atomic Layer Deposition (ALD), waaronder:
- Slot Die-depositieapparatuur, die depositie op grote substraten mogelijk maakt;
- Vacuümverdampingsapparatuur, die de verdamping van een metallisch of organisch materiaal en de depositie van een dunne laag op het oppervlak van een wafer of een substraat mogelijk maakt;
- Inkjetprintapparatuur voor de depositie van een dunne laag functionele vloeistoffen op het oppervlak van diverse substraten die grotere afmetingen kunnen bereiken (diëlektrische inkt, geleidende inkt);
- Apparatuur voor de depositie van dunne lagen door middel van spincoating, meer specifiek gericht op kleine substraten of wafers van beperkte omvang.
Een nieuw project?
Onze experts zullen u zo snel mogelijk een antwoord geven dat is aangepast aan uw behoeften.
Apparatuur en functies
Bekijk onze gerelateerde producten
Contactformulier
Hulp nodig of een offerte ontvangen? Neem contact met ons op
Fout: Contact formulier niet gevonden.